激光晶體關于脈沖激光的沉積原理簡介
更新時間：2023-01-05
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Ti激光晶體是一種廣泛使用的過渡金屬摻雜的激光晶體。由于Ti3+離子具有非常大的增益帶寬，這為獲得短脈沖激光器中實現的非常寬的波長可調性提供了可能性。為了獲得具有良好光學質量的晶體，Ti3+摻雜濃度不應超過0.25％。因此必須使用厚度為幾毫米的晶體。晶體的特征在于較短的高態壽命和高飽和功率。因此，必須強烈集中使用泵浦光束。
該晶體的主要特點有優良的導熱性、寬增益帶寬、多種可能的泵浦波長（通常為532 nm），可根據要求提供定制晶體。主要應用于具有超短脈沖的鎖模激光器以及多通放大器和再生放大器。
激光晶體中脈沖激光的沉積原理說明：
準分子激光器發射ns級激光脈沖，其被透鏡匯聚后聚焦于靶材表面。瞬間的高能輸入產生定向發射的等離子體，并沉積在基片表面。在激光作用的同時，可選擇加熱襯底，調節氣氛及真空度以調控生長情況。
主要特點：
1.因脈沖激光作用區內溫度瞬間急劇上升，使材料發生高度電離，終以等離子體向外噴發；因這一過程時間極短，不會在靶材內出現由長時間熱作用導致的熱損傷。
2.材料對入射激光進行多光子吸收，吸收過程只依賴于材料中的原子特性。
3.因等離子體的逆韌致吸收效應，激光能量的絕大多數為等離子層吸收。
